如何測量 SiC MOSFET 的 Vth

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穩定的 SiC Vth 特性分析

碳化矽 (SiC) 功率金屬氧化物半導體場效電晶體 (MOSFET) 臨界電壓量測比傳統矽基 FET 特性分析更困難,因為遲滯效應會導致 Vth 隨先前的閘極偏壓條件而變化。應用說明顯示,即使量測電路不變,不同的調節脈衝也會產生不同的擷取臨界電壓,使得可重複的元件評估變得困難。

為了解決此問題,JEP183 建議在量測前施加正向調節脈衝,以使陷阱電荷在 Vth 擷取期間保持受控狀態。Keysight 解決方案基於 B1505A/B1506A 搭配 EasyEXPERT group+,以及 B2902C 源量測單元搭配 PathWave IV 曲線量測軟體,可協助工程師實作這些工作流程,以實現更穩定、準確且應用就緒的 SiC MOSFET 特性分析。

SiC MOSFET 閾值電壓 (Vth) 測量解決方案

SiC MOSFET 臨界電壓特性分析需要受控的量測技術,以最大程度地減少遲滯效應並確保穩定、可重複的結果。Keysight 支援使用 B1505A/B1506A 功率元件分析儀/曲線追蹤器上的現成應用測試,以及使用 B2902C 專業桌上型源量測單元和 PW9251A PathWave IV 曲線量測軟體進行高速波形驅動量測,以實現基於 JEP183 的臨界電壓 (Vth) 特性分析。這些方法使工程師能夠減少變異性、擷取一致的 Vth 值並最佳化量測工作流程。它們共同提供了靈活性,以平衡易用性、測試速度和系統整合要求,從而實現進階元件特性分析。

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