DS1131A

光学的解析によるデバイス動作の可視化

光学的解析手法は、光学的観察と測定を通じて半導体デバイスの内部動作を調査するための独自の手段を提供します。専用のレーザー光源、発光顕微鏡機能、および高精度な光学測定器を組み合わせることにより、セキュリティエンジニアはデバイス内のアクティビティ領域を特定し、サイドチャネルリークやセキュリティに関連する動作を明らかにする情報を取得できます。

消費電力や電磁放射を観測する従来のサイドチャネル測定とは異なり、故障解析手法では光学的技術を活用してチップの局所領域を可視化します。これにより、エンジニアはアクティブな回路の特定、潜在的なリーク源の特定、およびシリコン内でのセキュリティ上重要な処理の実行方法のより深い理解が可能になります。

これらの技術は、脆弱性研究、対策の検証、認証準備、および高度なセキュリティ評価をサポートするために一般的に使用されています。フォトン発光イメージングによる関心領域の特定から、精密に制御されたレーザー光源を用いた光学的サイドチャネル測定の実行まで、故障解析ツールはデバイスの動作に対する深い理解を促進し、よりターゲットを絞ったセキュリティ調査を支援します。

完全な故障解析セットアップは、光学測定、イメージング、および局所化の機能を単一のワークフローに統合します。DS1101A フォルトインジェクションレーザーシステムがソリューションの中核をなし、高精度な光学調査のためのプラットフォームを提供します。ユーザーは、DS1210A 1310 nm シングルモード サイドチャネルレーザー光源または DS1211A 1425 nm シングルモード サイドチャネルレーザー光源を追加して光学的サイドチャネル測定を実行でき、一方、DS1105A 発光顕微鏡レーザー局所化アダプタと DS1131A 発光顕微鏡拡張セットにより、フォトン発光イメージングによるチップのアクティブ領域の可視化が可能になります。これらのコンポーネントが一体となって、セキュリティエンジニアによるリーク源の特定、関心領域の位置特定、およびデバイス動作に関するより深い洞察の獲得をサポートします。

デバイスアクティビティの可視化

光学的技術を活用して、半導体デバイス内のアクティブ領域を観測および解析します。

リーク源の特定

サイドチャネルリークの原因となりうるアクティブな回路領域と潜在的なホットスポットの位置を特定します。

高度なセキュリティ評価のサポート

デバイスの動作や挙動に対する追加の洞察により、電力解析や電磁解析を補完します。

高精度な光学測定の実現

レーザーベースの解析ツールと発光顕微鏡機能により、高度にターゲットを絞った調査を実行します。

製品画像
  • Technology

    Device Security

  • Wavelength

    1310 nm, 1425 nm

  • 最大出力

    130 mW ~ 500 mW

  • 追加機能

    C-mount adapter for camera, 320 (H) x 256 (V) pixels with 30 in pixel size, squared, Active sensor size 9.6 mm x 7.7 mm, Frame rate 344 frames/s

  • (SPD)N6700の製品タイプ

    Side channel laser source, Camera mount adapter, SWIR camera extension set

よくあるご質問