W8503EP IC-CAP 資料處理與分析（DataPro）

W8503EP IC-CAP 資料處理與分析（DataPro）的主要特性包括：

• 完全整合至建模流程中 ─ 選擇典型、邊緣及完整統計建模資料。整合從多站點單點或掃描量測，至最終模型產生的建模流程。
• 節省時間並將錯誤降至最低 ─ 無需將資料匯出至 Excel 等其他工具。可與 IC-CAP 檔案資料與 IC-CAP SQL 資料庫搭配運用。
• 高靈活性 ─ 內建自動資料評估和排序演算法。可基於單點、掃描資料或結合兩者進行選擇。基於多種條件進行選擇。可支援使用者定義的條件加權。可選擇不同的誤差公式。
• 簡單易用 ─ 自動檢視並排除異常。自動計算統計分布邊緣的晶粒。
• 準確 ─ 可支援全曲線資料和僅限單點量測的統計分析。分析曲線資料可提供更為準確的統計分布資訊。

W8503EP IC-CAP 資料處理與分析（DataPro）可運用統計分析進行量測資料分析、異常元件與晶粒辨識，並挑選出標準晶粒與邊緣晶粒。可自動從 WaferPro 和新的 SQL 資料庫中匯入量測資料。

首先，選擇 gm 與 Id 等指定目標，然後將統計分析套用至所有的量測裝置。如下圖所示，可分析目標資料的統計分布。

異常元件與晶粒在此階段排除後，其餘元件和晶粒將根據與平均值的差距進行分級，並進行典型/標準和邊緣晶粒識別。

可將典型和邊緣結果匯出，並在其他元件建模工具中使用，例如建模套件、邊緣建模等等。

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