장치의 빠른 계단 응답을 측정하는 방법

PXIe 정밀 SMU
+ PXIe 정밀 SMU

빠른 전압 단계 응답 측정

계단 응답 측정을 수행하려면 제어된 전압 변화를 가하고, 이에 따른 전압 변화를 시간에 따라 샘플링해야 합니다. 측정 시스템이 상승 에지와 그 이후의 정착 거동을 파악할 수 있을 만큼 충분한 시간 영역 샘플을 획득하는 동안, 전압원은 목표 전압으로 빠르게 전환되어야 합니다. 측정 타이밍, 전압원 범위, 샘플링 창 및 획득 지점은 예상되는 과도 현상의 지속 시간에 맞춰 설정됩니다.

획득된 샘플은 전압-시간 파형을 형성하며, 이를 통해 과도 및 정착 특성을 평가할 수 있습니다. 디지털화 모드로 작동하는 소스 측정 장치(SMU)를 사용하면 단일 계측기로 전압 스텝을 생성하고, 그 결과로 발생하는 과도 파형을 캡처할 수 있습니다. 이후 추가적인 시간 영역 검증이 필요한 경우, 측정된 파형을 오실로스코프로 캡처한 파형과 비교할 수 있습니다.

고속 단계 응답 측정 솔루션

계단 응답을 측정하려면 상승 에지와 안정화 특성을 파악할 수 있을 만큼 충분한 시간 영역 샘플을 수집하면서 급격한 전압 변화를 가해야 합니다. 키사이트(Keysight) PXIe 정밀 소스/측정 유닛은 이러한 워크플로우를 위해 전압 소스 기능과 디지털화 측정 기능을 결합합니다. 이 유닛은 최대 1.25 MSa/s의 샘플링 속도와 최대 1.4 V/µs의 슬루 레이트를 지원합니다. 이 애플리케이션 노트에서는 수동 800 ns 어퍼처와 100개의 디지털화 포인트를 사용하여 40 V 스텝 응답 측정을 시연합니다. 그 결과로 얻은 전압-시간 파형은 과도 응답을 직접적으로 보여주며, 오실로스코프 측정 결과와 비교할 수 있습니다.

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