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邊際與目標建模萃取軟體套件
邊際建模萃取軟體套件
IC-CAP 邊際建模萃取軟體套件讓建模工程師利用製程控制量測（PCM）統計資料產生 CMOS 半導體製程的邊際模型程式庫，和利用量測產生矽基萃取模型。量測資料建立的萃取模型所描述的，是特定元件集合的行為；與萃取模型不同，邊際模型描述了當統計製程變異發生時的模型行為。結合了 N 型和 P 型 CMOS 元件邊際模型產生模擬器程式庫檔案，可用於模擬最壞情況的電路條件。
邊際建模萃取軟體套件重要特色
- 有效率且準確地萃取 CMOS 元件的統計邊際模型
- 輕鬆完成邊際專案設定，運用 excel 試算表進行客製化；典型 CMOS 目標（如 Idmax、Idoff、Vth 等）已預先定義，使用者也能新增/客製化其他目標
- 輕鬆匯入從矽基量測資料萃取的程式庫，利如傳統 CMOS 萃取（如 BSIM4、PSP 或 HiSIM 萃取軟體套件）的輸出程式庫
- 專屬顯示視窗，包含目標圖形和參數調整功能
- 自動生成最終的模擬器邊際模型（包括 N 型和 P 型邊際元件）
- 強大的模擬器套件能運用所支援的所有模擬器執行自動化模擬，並識別警告和錯誤
- 自動產生 HTML 報告
- 模擬支援包括 Keysight 先進設計系統（ADS）、Synopsys HSPICE、Cadence Spectre 和 Mentor Graphics ELDO
概述
邊際建模軟體套件擁有專屬的操作介面（UI）和工具，協助工程師進行下列萃取和驗證步驟：
- 為每個邊際元件定義可用的 PCM 目標和統計資訊（平均、最小和最大值），來產生一個新的專案。
- 可選擇模擬器、程式庫設定和使用的參數，為邊際建模進行微調。工具自動將為您產生原始程式庫，並用於微調流程中。
- 邊際建模流程的第一步為對準典型模型參數來吻合典型元件行為，接著調整參數來吻合邊際行為（見下圖，用於微調的專屬操作介面視窗）。
- 自動為一個或多個模擬器產生最終邊際模型程式庫，然後使用模擬器套件執行驗證測試。模擬器套件會使用萃取出的邊際程式庫執行可客製化的模擬，並在模擬中發生錯誤或警告時會發出警告。
- 最後，產生 HTML 報告用於文件製作。
目標建模萃取軟體套件
IC-CAP 目標建模萃取軟體套件讓工程師可以有效率地根據製程控制監控（PCM）目標資料萃取或重新校正 CMOS 模型。傳統的 CMOS 建模使用多種不同元件尺寸的廣泛、豐富的 I-V 和 C-V 資料。這些資料通常是在製程成熟穩定時，耗費大量時間進行量測取得。為了在設計周期中更加容易地萃取準確的 CMOS 模型，目標建模使用了製程控制監探（PCM）資料，這類資料通常是快速單偏壓點量測資料，在製程開發早期就能簡單取得。
目標建模萃取軟體套件主要特色
- 為此應用而設計的專屬操作介面
- PCM 資料和相關的偏壓資訊可從 Excel 試算表匯入
- 可匯入並顯示 PCM 統計資訊（平均和散佈值）
- 直接支援 BSIM3、BSIM4、PSP、HiSIM2 和 BSIMSOI4 模型
- 直接與模擬器連結，包括 ADS、Spectre 和 HSPICE。
- 可顯示、調整和最佳化使用者定義的比例和 I-V 圖表
- 可客製化的自動生成 HTML 報告
- 採開放架構，可將傳統的 I-V 軌跡與 PCM 資料作圖一起匯入並使用
概述
萃取軟體套件包含了一個專屬操作介面主視窗，用於管理 PCM 資料匯入和產生比例與 I-V 圖表。元件資訊和 PCM 資料直接從 excel 試算表匯入。配備多種方便使用的設定精靈，幫助您定義元件子集，導出 PCM 資料比例圖表（如 Ion 對 L、Ioff 對 W 等）。
專屬的操作介面讓您可以結合圖表做成多個作圖。強大的 IC-CAP 作圖最佳化工具，讓您方便地選擇模型參數、進行調整和最佳化比例和 I-V 作圖。
強大的模擬器連接 ADS，可在模擬多個元件時進行即時調整。
了解更多 IC-CAP 元件建模軟體的相關資訊。