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레이저 헤드(laser head)
키사이트 레이저 헤드는 최고의 신뢰성을 자랑합니다. 원하는 속도와 크기 조건에 가장 적합한 레이저 헤드를 선택하십시오.
레이저 헤드는 모든 레이저 모션과 위치 측정 시스템에서 사용되는 레이저 빔 소스입니다. 레이저 헤드는 속도, 참조 주파수 및 광학 출력에서 주로 차이가 납니다. 다른 고려 사항으로는 크기, 열 발산 그리고 입력 요건이 있습니다. 어떤 레이저를 선택해야 하는가는 주로 이를 사용할 어플리케이션에 따라 다릅니다. 예를 들어, 반도체 인쇄 시스템에는 주로 빠르게 움직이는 부분(스테이지)이 사용되기 때문에 공작 기계 분야보다 빠른 속도가 필요합니다.
레이저 헤드에는 적합한 광학 부품과 시스템 전자 부품을 사용하여 개별 어플리케이션의 독특한 물리적 배치와 측정 요구조건을 충족하는 레이저 간섭계를 이루도록 구성되어 있습니다. 키사이트는 제품 품질과 생산성을 높이고 고정밀 제품을 효율적으로 제조할 수 있는 맞춤식 위치 측정 시스템을 구성해드릴 수 있습니다.
아래 표에서 레이저 헤드를 선택하십시오. 모든 레이저 헤드에 공통적인 특성을 아래 목록에서 확인하십시오. 그 외의 다른 속도, 참조 주파수 또는 빔 직경이 필요한 경우는 키사이트로 연락해주십시오.
모든 레이저 헤드는 다음 특성을 갖습니다.
- 유형: He-Ne, 연속파 출력, 2 주파수(헤테로다인)
- 분극: 낮은 주파수 f1은 수평이고 높은 주파수 f2는 수직입니다. f1과 f2의 차이는 참조 주파수입니다. 아래 표를 참고하십시오.
- 빔 출력: 최소 180uW, 최대 1mW(최소 120uW, 최대 1mW인 5517B는 제외). 키사이트로 연락하시면 더 높은 전력 레벨도 제공해드립니다.
- 빔 직경: 6mm (0.25in) 표준. 3mm 및 9mm도 이용 가능
- 파장: 632.9913720nm (진공 상태에서 명목상 값)
- 파장 정확도: 0.1ppm (진공, 3 시그마, 사용 기간). MIL-STD 45663으로 공장 교정 시 0.02
- 파장 안정성: 0.002ppm 1시간 (일반적, 진공), 0.02ppm 사용 기간 (진공)
- 측정 범위: 모든 축에서 40m (130ft)
- 예열 시간: <10분 (일반적으로 4분)
- 안전 등급: 미국 National Center for Devices & Radiological Health Regulations 21 CFR 1040.10 및 1040.11을 따르는 등급 II 레이저 제품
- MTBF: > 50,000 시간 (일반적)
- 자기장 강도: 봉입된 레이저 헤드 표면의 모든 지점으로부터 4.6m(15 ft) 거리에서 <= 5.25 milliGauss(튜브 둘레의 영구 자석으로 인해 발생, 비 작동
- 입력 요구조건: 최대 2.2A에서 +15V 0.3V; AC 입력을 사용하는 5519A/B를 제외하고 최대 0.02A에서 -15V 0.3V. 자세한 내용은 제품 페이지를 참고하십시오.
- 열 발산: 작동 시 23W, 예열 시 35W. 5519A/B는 예외적으로 작동 시 33W 및 예열 시 50W
- 배선에 필요한 공간: 장치 뒷면에서12.00cm(4.72in). 5519A/B는 예외적으로 10.00cm(4 in).
- 보증기간: 3년
“L”로 끝나는 레이저 헤드 제품 모델 번호(예: 5517BL)에는 다음 추가적인 특성이 있습니다.
- 배기: 어플리케이션으로 발산되는 전력을 줄이기 위한 강제 냉각
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5517FL 레이저 헤드는 주로 VME 및 PC 기반 레이저 간섭계 시스템에서 2 m/s의 최대 선형 옵틱 속도로 사용됩니다.
5517 시리즈는 클래스 II 헬륨-네온 레이저 소스로, 정밀한 이중 주파수 간섭계를 위한 안정성이 뛰어나고 정확한 633 nm 파장의 빛을 제공합니다.
5517B는 주로 공작 기계와 같이 모션 속도가 더 느린 VME 기반 및 PC 기반 시스템과 5527A 시스템에 사용됩니다.
The primary uses for the Keysight 5517D include VME- and PC-based systems and the Keysight 5501A and 5527A systems where the velocity of motion is faster, such as semiconductor lithography and flat panel applications.
5517EL 레이저 헤드는 주로 반도체 리소그래피와 같이 모션 속도가 더 빠른 VME 및 PC 기반 레이저 간섭계 시스템에 사용됩니다.
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